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lithography plus 文章 進(jìn)入lithography plus技術(shù)社區
佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案平臺“Lithography Plus”
- 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務(wù)（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“Lithography Plus”），該系統匯聚佳能在半導體制造領(lǐng)域超過(guò)50年的技術(shù)積淀，以包括曝光工藝在內的海量半導體制造數據為支持，在提升設備維護運轉率的同時(shí)，能夠實(shí)現半導體制造工藝的優(yōu)化。?佳能陸續推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線(xiàn)光刻機等一系列產(chǎn)品，多年來(lái)一直積極地為購置佳能光刻機的客戶(hù)提供技術(shù)支持?！癓ithography Plus”通過(guò)綜合運用技術(shù)經(jīng)驗與數據積累，在實(shí)
- 關(guān)鍵字： 佳能 半導體光刻機 Lithography Plus
Vistec Lithography宣布與華中科技大簽署戰略合作伙伴協(xié)議
- 電子束光刻系統的知名廠(chǎng)商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國武漢華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署了戰略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學(xué)是大陸國家級重點(diǎn)院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設備的領(lǐng)先廠(chǎng)商，按協(xié)議規定，兩家將在納米光刻技術(shù)研究和教學(xué)領(lǐng)域開(kāi)展合作。 這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學(xué)的EBPG5000pES電子束光刻系統，裝備這套系統之后，華中科技大學(xué)在教學(xué)，科研以及對外合作方面的實(shí)力將如虎添翼。華中科技大學(xué)稱(chēng)：“
- 關(guān)鍵字： Vistec-Lithography 光刻 掩膜
Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫(xiě)光刻設備
- Maskless Lithography公司今天首次公開(kāi)推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門(mén)檻的直寫(xiě)數字成像技術(shù)。這種MLI-2027直寫(xiě)光刻系統首次在業(yè)內同時(shí)實(shí)現高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過(guò)在洛杉磯的工廠(chǎng)中對Maskless MLI-2027設備進(jìn)行測試、驗證和認證后，購買(mǎi)了該公司的首臺產(chǎn)品。 “這臺設備的售出標志著(zhù)我們五年的研發(fā)工
- 關(guān)鍵字： Maskless-Lithography PCB 光刻系統 MLI-2027
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